哈西奈德溶液

哈西奈德溶液

二硫化硒洗剂

哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）

主要成分为本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。辅料为;二氧化钛、甘油皂土、柠檬酸洗净剂、单硬脂酸甘油脂、十八醇、十二烷基硫酸钠、磷酸氢二钠、纯化水。

河北九正药业有限公司

上海新亚药业高邮有限公司

国药准字H19993626

国药准字H10890059

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病[1]、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于去头屑、头皮脂溢性皮炎、花斑癣（汗斑）。

外涂患处每日早晚各一次。

1.治疗头皮屑和头皮脂溢性皮炎。 (1)先用肥皂清洗头发和头皮。 (2)取5～10克药液于湿发及头皮上，轻揉至出泡沫。 (3)待3～5分钟后，用温水洗净，必要时可重复一次。 (4)每周2次，一个疗程2～4周，必要时可重复1个或2个疗程。 2.治疗花斑癣。 (1)洗净患处。 (2)根据病患面积取适量药液涂抹(一般10至30克)。 (3)保留10～30分钟后用温水洗净。 (4)每周2次，一个疗程2～4周，必要时可重复1个或2个疗程。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应（参看注意事项）。

1.皮肤有炎症、糜烂、渗出部位禁用。 2.外生殖器部位禁用。

儿童注意事项： 儿童必须在成人的监护下使用。 妊娠与哺乳期注意事项： 尚不明确。 老人注意事项： 尚不明确。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病[1]、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于去头屑、头皮脂溢性皮炎、花斑癣（汗斑）。

1. 抗炎作用　　　本品为局部用药，为高效含氟和氯的皮质类固醇，具有抗炎、抗瘙痒和血管收缩作用。本品在去炎松的骨架上，以氯原子取代21位羟基，其血管收缩试验测定抗炎效价倍数为360，已有证据认为血管收缩试验强度与疗效相一致。其抗炎止痒的作用机理是提高β受体对儿茶酸胺的反应性，通过激活腺苷环化酶使CAMP生成增多，并抑制磷酸乙酯酶使CAMP破坏减少，结果使细胞中cAMP年浓度增高，同时又抑制组织胺的释放。本品抑制大鼠和小鼠肉芽肿增生的作用与地塞米松相似。用甲醛致小鼠和大鼠后足跟肿胀法观察，本品和地塞米松均有明显的抑制作用，而用高5倍量的氢化可的松也无抑制作用。本品对胸腺及脾脏有明显的减重作用。2. 对各类细胞的选择性药理作用　　　减少T淋巴细胞、单核细胞、嗜酸性粒细胞数量，抑制淋巴细胞增殖及细胞因子生成，抑制巨噬细胞分化及吞噬活性，抑制中性粒细胞粘附，降低血管内皮细胞通透性，抑制成纤维细胞增殖及胶原合成，抑制皮脂腺细胞活性。3. 抗增生作用　　　本品具有抗有丝分裂作用，它降低PNA的转录，从而降低DNA的合成，也影响DNA的修复，结果使表皮变薄，尤其对胶原的合成影响最大。4. 免疫抑制作

具有抗皮脂溢性、抗头屑、抗细菌和抗真菌及角质溶解作用。本品可与过氧化酶一胱氨酸结合，抑制表皮油脂中不饱和脂及酸过氧化，降低皮脂中脂肪酸含量。同时可抑制头皮表皮细胞的生长，抑制核分裂造成表皮细胞更替减少。本品尚对头癣的病原菌断毛癣菌有杀火孢子作用。具有抗皮脂溢性、抗头屑、抗细菌和抗真菌及角质溶解作用。本品可与过氧化酶一胱氨酸结合，抑制表皮油脂中不饱和脂及酸过氧化，降低皮脂中脂肪酸含量。同时可抑制头皮表皮细胞的生长，抑制核分裂造成表皮细胞更替减少。本品尚对头癣的病原菌断毛癣菌有杀火孢子作用。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

1.本品仅供外用，不可内服。 2.对本品过敏者禁用;皮肤有炎症、渗出者慎用。 3.在染发、烫发后两天内不得使用本品。 4.头皮用药后应完全冲洗干净，以免头发脱色。 5.避免接触眼睛。 6.用前应充分摇匀，如天冷药液变稠可温热后使用。 7.用后应塞紧瓶盖。 8.不要用金属器件接触药液，以免影响药效。 9.如经2个或3个疗程病症仍未见好转请向医师咨询。 10.外用部位如有灼烧感、瘙痒、红肿等情况，应停止用药，并将局部药物洗净。必要时向医师咨询。 11.儿童必须在成人的监护下使用。 12.请将此药品放在儿童不能接触的地方。 13.当药品性状发生改变时禁止使用。